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真理光學(xué)盛裝亮相2025上海先進(jìn)陶瓷展
  • 發(fā)布日期:2025-03-07      瀏覽次數(shù):787
    • 中國先進(jìn)陶瓷材料、磁性材料及粉末冶金領(lǐng)域盛會(huì)--2025第十七屆中國國際先進(jìn)陶瓷展覽會(huì)將于下周一在上海世博會(huì)展覽館H2館盛大開幕!作為中國高端激光粒度分析儀器的優(yōu)秀企業(yè),珠海真理光學(xué)儀器有限公司將再次盛裝參展,攜多款創(chuàng)新產(chǎn)品亮相,助力高性能陶瓷、3D打印金屬粉、磁性材料等高端制造領(lǐng)域的快速發(fā)展!

      真理光學(xué)盛裝亮相2025上海先進(jìn)陶瓷展

               在高性能陶瓷、粉末冶金、磁性材料、增材制造等Gao端制造領(lǐng)域,材料的粒度分布直接影響產(chǎn)品的最終性能。例如:
               ● 高性能陶瓷:陶瓷材料的粒度分布直接影響其燒結(jié)性能、機(jī)械強(qiáng)度和表面光潔度。精準(zhǔn)的粒度分析能夠幫助優(yōu)化陶瓷材料的制備工藝,提升產(chǎn)品的可靠性和使用壽命。
               ● 粉末冶金:金屬粉末的粒度分布決定了成型件的致密度和表面質(zhì)量。激光粒度分析儀能夠快速、準(zhǔn)確地測量金屬粉末的粒度分布,確保生產(chǎn)過程中的材料一致性,提升產(chǎn)品的精度和強(qiáng)度。
               ●  磁性材料:磁性材料的粒度分布直接影響其磁性能和穩(wěn)定性。通過激光粒度分析,可以精確控制磁性材料的顆粒大小,優(yōu)化其磁性能,滿足高端電子器件和新能源領(lǐng)域的需求。
               ●  增材制造(3D打?。航饘俜勰⑻沾煞勰┑仍牧系牧6确植贾苯佑绊?D打印成型件的致密度和表面質(zhì)量。激光粒度分析儀能夠快速、準(zhǔn)確地測量粉末的粒度分布,確保打印過程中的材料一致性,提升打印件的精度和強(qiáng)度。

      真理光學(xué)盛裝亮相2025上海先進(jìn)陶瓷展

              作為中國高性能激光粒度分析儀器的制造商,真理光學(xué)始終秉持“科學(xué)態(tài)度,工匠精神”,致力于為全球用戶提供優(yōu)質(zhì)的粒度分析解決方案。我們的產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于高性能陶瓷、粉末冶金、磁性材料、增材制造等領(lǐng)域,幫助客戶實(shí)現(xiàn)精準(zhǔn)的粒度控制,提升產(chǎn)品質(zhì)量。

      真理光學(xué)盛裝亮相2025上海先進(jìn)陶瓷展

      圖為:LT2200系列 全自動(dòng)激光粒度分析儀產(chǎn)品

              在本次展會(huì)上,真理光學(xué)將展示多款創(chuàng)新產(chǎn)品,包括:   
              LT系列高速智能激光粒度分析儀
                   ● 量程范圍:0.015微米至3600微米
                   ● 測量速度高達(dá)10000次/秒,兼具高靈敏度和重現(xiàn)性
                   ● 廣泛應(yīng)用于高性能陶瓷、粉末冶金、磁性材料、增材制造等領(lǐng)域
             Nanolink SZ902納米粒度及Zeta電位分析儀

                   ● 測量范圍覆蓋0.3nm至15um,支持多角度測量
                   ● 適用于納米顆粒、乳液、高分子聚合物、病毒抗體等樣品的粒度及Zeta電位分析。

      真理光學(xué)盛裝亮相2025上海先進(jìn)陶瓷展

        圖為:上一屆展會(huì)真理光學(xué)展臺(tái)現(xiàn)場

             真理光學(xué)誠邀廣大客戶和設(shè)備同行朋友蒞臨展位,共同探討激光粒度分析技術(shù)在高性能陶瓷、3D打印金屬粉、磁性材料等領(lǐng)域的最新進(jìn)展與應(yīng)用前景。我們期待與您面對(duì)面交流,分享我們的創(chuàng)新成果,助力您的企業(yè)在高端制造領(lǐng)域取得更大的突破!
              真理光學(xué),科學(xué)態(tài)度 工匠精神,為您提供先進(jìn)的粒度分析解決方案!
              真理光學(xué)展位號(hào):H2館D617
             上海世博會(huì)展覽館-北門右側(cè)H2館,第3個(gè)入口處

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